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Título: CVD of CrO2 thin films: Influence of the deposition parameters on their structural and magnetic properties
Autor: Mota, A. F.
Silvestre, A. J.
Sousa, P. M.
Conde, O.
Rosa, M. A.
Godinho, M.
Palavras-chave: Chromium Dioxide (CrO2)
Atmospheric Pressure CVD
Spintronics
Spin Polarization
Epitaxial-Growth
Point-Contact
Ferromagnet
Transport
Data: 2006
Editora: Trans Tech Publications LTD
Citação: Mota A F, Silvestre A J, Sousa P M; Conde O, Rosa M A, Godinho M. CVD of CrO2 thin films: Influence of the deposition parameters on their structural and magnetic properties. Advanced Materials Form III, PTS 1 AND 2. 2006: 514-516, 248-288.
Resumo: This work reports on the synthesis of CrO2 thin films by atmospheric pressure CVD using chromium trioxide (CrO3) and oxygen. Highly oriented (100) CrO2 films containing highly oriented (0001) Cr2O3 were grown onto Al2O3(0001) substrates. Films display a sharp magnetic transition at 375 K and a saturation magnetization of 1.92 mu(B)/f.u., close to the bulk value of 2 mu(B)/f.u. for the CrO2.
Peer review: yes
URI: http://hdl.handle.net/10400.21/1758
ISSN: 0255-5476
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